解決方案案例 [case-024] 可在不同pitch的設備間搬送的Robot

  • 雜質擴散
  • 熱氧化
  • 退火
  • VF-5100
  • VF-5300(B)

因採用Pitch可變Robot ,可不降低生產性對應6"用SMIF POD。

支援流程 氧化、擴散、退火
型號介紹 VF-5300型、VF-5100型、其他各種立式爐管

問題

通常情況下,用在6″晶圓的open cassette溝槽間距為4.76mm。但是,對應6″的SMIF POD的間距為6.35mm,爐內的石英晶舟的PITCH也需要相對應的設計成6.35mm。結果,便造成每一倉的處理量降低。

解決方案

採用配備有間距可變功能的Robot,可達成6.35mm Pitch的SMIF POD和4.76mm Pitch 石英晶舟間的搬送。

結果

可在不減少每batch處理量的狀況下處理6″晶圓(處理量150片/batch)。
又,這種間距可變Robot,也可適用於未來增產的SiC晶圓。