解決方案案例 [case-024] 可在不同pitch的設備間搬送的Robot
- 雜質擴散
- 熱氧化
- 退火
- VF-5100
- VF-5300(B)
因採用Pitch可變Robot ,可不降低生產性對應6"用SMIF POD。
支援流程 | 氧化、擴散、退火 |
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型號介紹 | VF-5300型、VF-5100型、其他各種立式爐管 |
問題
通常情況下,用在6″晶圓的open cassette溝槽間距為4.76mm。但是,對應6″的SMIF POD的間距為6.35mm,爐內的石英晶舟的PITCH也需要相對應的設計成6.35mm。結果,便造成每一倉的處理量降低。
解決方案
採用配備有間距可變功能的Robot,可達成6.35mm Pitch的SMIF POD和4.76mm Pitch 石英晶舟間的搬送。
結果
可在不減少每batch處理量的狀況下處理6″晶圓(處理量150片/batch)。
又,這種間距可變Robot,也可適用於未來增產的SiC晶圓。