此熱處理系統可執行矽晶圓、IGBT、聚酰亞胺和薄晶圓的氧化、擴散和CVD。作為我們的旗艦級機型，此爐配備了大容量儲料器，並且具有較短的循環時間。
此帶有內置堆料器的直立式爐管可在超高溫下大批量處理8英寸晶圓。
此爐是可以進行氧化、擴散、LPCVD、活化退火等各種熱處理的半導體熱處理系統。
此大批量、擴散、LPCVD、直立式爐管可執行4到8英寸晶圓超高溫處理。
此系統可彈性配置，使您的生產線能處理多種產品。此爐擅長功率裝置製造。
這種配備自動輸送機的低價直立式爐管可用於從研發到批量生產4至8英寸晶圓的一系列功能。
我們已將價格壓到如此低，方便後端使用者可以導入這種爐子。
超高溫處理是可用的，最適合功率裝置製造。
這種用於實驗和研究 (研發) 的小型生產直立式爐管實現了高品質的加工。
此爐結構輕巧，安裝面積小，可用於寬範圍的晶圓直徑，並具有與量產爐相同的溫度特性。
