接觸退火用燈管退火爐（真空傳送）
真空負載鎖定能力提高了處理量。
支援各種晶圓，包括Si、GaN和SiC。
支援各種晶圓，包括Si、GaN和SiC。
特性
- 真空負載鎖定在腔室和運輸裝置上為標準配備，可實現高處理量。
- 包括用於SiC和GaN晶圓的自動基座轉移功能。
- 6區控制可以輕鬆控制每個區的功率比。
- 工件溫度的非接觸式測量使用輻射溫度計進行，而且可以進行反饋控制。
- 新增了雙爐膛類型。傳送和冷卻部分也得到了優化，生產效率比以前的型號提高了2~2.4倍。(RLA-4200-V)
概要
以上下交叉排列的多個鹵素燈為熱源，用於晶圓的快速、高精度退火的生產設備。使用新開發的真空運輸平台，可以在超低氧氣氛中運輸和處理工件。
規格
| 型式 | RLA-4200-V | RLA-4100-V |
|---|---|---|
| 設備本體尺寸 (mm)
*不包含Gas box ·Console
|
W3300 × D4850 × H2430 | W1800 × D2800 × H2275 |
| 晶圓尺寸 (mm) | ～Φ200 | |
| 工作溫度範圍 | 400至1200°C | |
| Carrier 儲存數量 | 2 | 1 |
| 製程處理爐膛數 | 2 | 1 |
| 升溫速率 | 最高200°C/秒（處理Si晶圓時） 最高50°C/秒（處理SiC晶圓時） |
|
| 燈陣列 | 頂部/底部表面交叉陣列 | |
| 控制區數量 | 6 | |
| 晶圓運輸 | 單片 / 真空吸塵機器人 | |
| 處理 | 退火、氧化 | |
| 工件 | Si、SiC 晶圓、GaN、其他 | |
