RLA-4106-V接觸退火用燈管退火爐

真空負載鎖定能力提高了處理量。
支援各種晶圓,包括Si、GaN和SiC。

特性

  • 真空負載鎖定在腔室和運輸裝置上為標準配備,可實現高處理量。
  • 包括用於SiC和GaN晶圓的自動基座轉移功能。
  • 鹵素燈安裝在上下交叉處。
  • 6區控制可以輕鬆控制每個區的功率比。
  • 工件溫度的非接觸式測量使用輻射溫度計進行,而且可以進行反饋控制。

概要

以上下交叉排列的多個鹵素燈為熱源,用於晶圓的快速、高精度退火的生產設備。使用新開發的真空運輸平台,可以在超低氧氣氛中運輸和處理工件。

規格

工作溫度範圍 400至1200°C
升溫速率 最高200°C/秒
燈陣列 頂部/底部表面交叉陣列
控制區數量 6
晶圓尺寸 (mm) Φ150*Φ200mm 尺寸也可加工。
晶圓運輸 真空吸塵機器人
處理 退火、氧化
工件 Si、SiC 晶圓、GaN、其他