RLA-1200 R&D用RTP設備
此用於4英寸至8英寸晶圓的燈退火系統即使針對研發用途也能實現高品質的加工。 活化和氧化可在真空 (LP) 環境和氮氣負載鎖定氣氛中進行。
特性
- 用於研發的高效能製程
- 透過手動基座轉移的低成本系統
- 上下十字燈結構及均熱爐提高面內溫度均勻性
- 可提供4至8英寸晶圓尺寸
- 配備易於操作的高效能控制系統
- 真空設計的石英管可在真空壓力下實現精確的氣體置換和製程
概要
此用於4英寸至8英寸晶圓研發的燈退火系統透過 200°C/秒的高速加熱和手動基座轉移節省加工成本。採用上下交叉鹵素燈的結構，實現優異的面內溫度均勻性，進而達成低成本和高品質的加工。由於石英管的設計具有抗真空特性，因此可以在清潔真空 (LP) 環境和氮氣負載鎖定氣氛中進行加工。
規格
| 外部尺寸 | W1300×D1300×H1850 mm |
|---|---|
| 工作溫度 | 400至1200°C |
| 升溫速率 | 最高200°C/秒 |
| 燈具佈局 | 上下十字燈陣列 |
| 控制區數量 | 6 |
| 晶圓尺寸 | 4至8英寸 |
| 晶圓轉移 | 手動 |
| 選用件 | 真空系統 潔淨工作台 |
