這些型號採用最新的氣體控制技術,可以進行氣氛分離,可以精細控制目標區域的氣體成分。(例如:低溫區氧氣濃度高,中溫區氧氣濃度中等,燒成區氧氣濃度低)。
適用於LTCC基板和MLCC的熱處理、電感器生產和粉末冶金燒結。作為銅 (Cu) 漿料燒製爐也能提供良好的效果。
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