開發設備和原型實驗
這些輕巧型電爐用於開發和原型打造實驗,以創造可用於大規模生產設備的可靠技術。也可提供半自訂訂單。
隨著材料和技術的發展,熱處理製程不斷改進。
我們在量產設備的製造過程中積累的經驗、訣竅和改進技術正在不斷發展,成為我們獨特而寶貴的支柱,並應用於我們的新產品。
基於此骨幹,除標準設備外,我們亦提供半自訂電爐的設計和製造,可滿足測試和開發工作場所的廣泛需求。憑藉我們成熟可靠的技術,我們將根據客戶的要求提供各種解決方案,例如氫氣氛或濕氣氛中的處理、增加真空控制機制或其他需求。
多用途熱處理爐
這些產品是用於電子元件、電池和各種設備的多用途熱處理設備。其生產以半自訂訂單為基礎。
我們在電爐方面積累的專業知識為脫脂、燒製、燒結、退火和其他製程提供了有效的處理方法。
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真空箱型爐ΜB系列
透過使用真空淨化縮短氣氛更換時間。
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小型連續爐810系列
用於研發的連續爐,提供乾燥和燒製製程
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小型真空箱型爐 μBF
這些箱式爐能使用真空淨化來快速改變爐內的氣氛。也能在還原氣氛中處理。
用於各種陶瓷的脫脂、燒製、電子元件的燒製等用途。
正常工作溫度範圍:400至900°C -
真空烘烤爐
能在減壓下進行進階處理,具有均勻的溫度分佈和三個獨立區域加熱器的精確控制。
適用於聚酰亞胺的硬烘烤、塑料封裝的乾燥、晶圓的乾燥和烘烤等用途。
正常工作溫度範圍:250至480°C -
高溫氣氛箱型爐
可在氮氣 (N2)、氫氣、真空等各種氣氛中進行高溫處理。
可用於廣泛的應用,包括非氧化物陶瓷的燒製、電子元件的金屬化和熔化金屬。
正常工作溫度範圍:800°C以上
(上限溫度因氣氛而異。)
其他
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桌上型燈管爐DTL-6
可實現低溫範圍加工的快速加熱裝置
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真空管式爐
這些管式爐也能在真空氣氛中進行處理。還支援各種氣體環境。
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處理粉末用管式爐
管子沿軸向旋轉以提供均勻的粉末加熱。