半導體設備開發記錄
JTEKT Thermo Systems於1970年進入半導體製造設備市場，推出以Tempress Japan品牌製造的橫型熱處理系統。當時，公司名稱為Koyo Lindberg，這是本公司在1967年7月至1999年10月期間的實體名稱。此後，公司提供廣泛的熱處理技術，這些技術在日本半導體產業的成長和發展中發揮了作用。我們的重點一直是開發由帶有細線元件的LGO加熱器驅動的直立式熱處理設備。其他範例還包括燈退火設備和潔淨烤箱系統。
半導體設備
製造半導體積體電路需要多種類型的設備來完成各種製程。範例包括用於在半導體中加入微量雜質的摻雜設備，以及將電路圖案燃燒到基板上的曝光設備 (稱為光刻的製程)。JTEKT Thermo Systems透過製造用於氧化和沈積等製程的熱處理設備，推出廣泛的產品系列。
經營方針
不斷成長的利基市場
JTEKT Thermo Systems專注於我們擅長的利基市場，並儘一切努力開發這些市場所需的新技術和設備。
1972年以前 橫型擴散爐
85000型橫型擴散爐 (完全日本製造) 於1972年完成。隨著晶圓尺寸不斷加大，用於8英寸晶圓的208A-M300型三級爐已成為我們目前的銷售主力。我們的橫型擴散爐所採用的技術也已應用於太陽能電池製造的擴散爐。這些機型目前為主要的日本製造商採用，以滿足對自然能源日益成長的需求。
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1985年以前 燈退火系統
我們的第一個燈退火系統是獨家使用日本技術開發並推出的。1992年，我們開發了全自動型號RLA-311。我們目前的重點是用於SiC功率裝置的燈退火系統。
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1985年以前 直立式擴散爐
JTEKT Thermo Systems開發出VF-2000直立式氧化擴散爐，成為產業先驅。1989年，我們開發VF-5000系列直立式爐管，開始量產。這些機型以清潔機器人為特色，成為旗艦級產品。為了支援更大的晶圓尺寸，我們也開發並推出適用於300-mm晶圓的VF-5700和VF-5900型號。我們透過開發1,800℃活化爐和1,400℃氧氮化爐等設備，擴大SiC功率裝置設備的銷售範圍。
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2001年以前 潔淨烤箱系統
這款專為後端使用者開發的300mm晶圓潔淨烤箱在大量交付給OSAT公司和其他客戶後成為暢銷產品。我們現在正在擴大用於下一代扇出晶圓級封裝技術的升級系統的銷售。
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