优化设计

我们针对客户需求推荐合适的热处理设备。

“我希望能够进行实验性开发和小批量生产。我也希望能够更容易地过渡到大批量生产。”
“虽然我们可用于安装机器的区域面积有限,但我们希望安装符合所需规格要求的机器。”
“由于新的处理要求薄膜沉积分布均匀,我们希望能够精确控制温度和气氛。”
“因为它将在特定的气体环境中使用,我比较担心安全性。”

这些是我们客户的一些要求和担忧。我们以积累的设计知识解答此类客户询问,并根据我们丰富的生产经验推荐合适的热处理设备。
请随时与我们联系。

定制示例

立式炉管示例

  • 支持气柜布局更改
  • 支持在大气压下使用液体源进行处理
  • 支持硒化/硫化处理
  • 为大口径熔炉(G4 或更大尺寸)提供真空支持
  • 碳纳米管生长设备
  • 支持薄晶圆(80μm 或以上)
  • 支持扇出型晶圆的设备
  • 为大型 FPD 聚酰亚胺固化面板提供基板支持
  • 支持湿真空处理
  • 支持干真空(氧分压控制)处理
  • 支持使用 ClF3 进行现场清洁
  • 支持处理石英盒的散装运输
    [摘要]装有晶圆的石英盒按原样转移、堆叠,并在该状态下进行热处理。
  • 支持平面多晶硅(无温度倾向)

*支持因型号而异。

灵活的设备布局

可以将连接到熔炉的气柜等移动到后侧或地板下面,而不仅仅是前后方。我们可以避开设备区域的限制,并提高设备的可维护性。

熔炉前侧气柜一层

卧式炉管示例

  • 配备自动移动式加热器的快速冷却机构
  • 配备自动开启/关闭式加热器的强制冷却机构
  • 自动输送石英安瓿的注水冷却机构
  • 支持使用悬臂装载机进行 POCl3 和 BBr3 扩散
  • 高速悬臂装载机(支持氧气施体杀手处理)

灯退火炉示例

  • 更换基座上工件的机构
  • 同时处理多片一体式
  • 支持从氧化到氧氮化的连续处理

烘箱示例

  • 支持 φ8” 和 φ300mm 晶圆

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