该立式炉管是用于硅晶片、IGBT、聚酰亚胺和薄晶圆氧化、扩散和化学气相沉积的热处理系统。作为我们的旗舰型号，该立式炉配备有大量存储功能的储料器，实现节拍短缩。
该热处理系统可进行硅晶片、IGBT、聚酰亚胺和薄晶圆氧化、扩散和化学气相沉积。由于该型号高度小于 3000 毫米，因此很容易引入采用。不仅周期短，而且吞吐量高。这款内置储料器的立式炉管可以在超高温下大批量处理 8 英寸晶圆。
该立式炉管是一种半导体热处理系统，可进行氧化、扩散、LPCVD、活化退火和各种其他热处理。
这款大批量、扩散、LPCVD、立式炉管可对 4 至 8 英寸的晶圆进行超高温处理。
该系统可以灵活配置，使您的生产线能够处理各种产品。该立式炉管擅长功率器件制造。
这款配有自动输送机的低成本立式炉管可用于从研发到批量生产 4 至 8 英寸晶圆的一系列功能。
我们实现了如此低的价格，有助于后端用户引进这款立式炉管。
提供超高温处理，非常适合功率器件制造。
这款用于实验和研发的小规模生产立式炉管实现了高质量的处理。
该立式炉管很紧凑，只需要很小的安装面积，但可用于各种直径的晶圆，具有与量产炉相同的温度特性。
