大口径立式炉管

用于生产先进半导体封装、液晶显示器、有机发光二极管(OLED)和聚酰亚胺薄膜的 RDL(接线层)和玻璃中间膜的大直径立式炉。

特性

  • 液晶和 OLED:对应 730x920mm的基板兼容(其他尺寸可与我司联系)
  • 中间膜:对应 300x300mm~600x600mm的各种基板
  • 该半导体扩散炉已被改造成更大规模,可用于平板显示器
  • 可进行常压处理和减压处理
  • 大型 LGO 加热器具有出色的温度特性

概述

该大口径立式炉管采用严格的温度特性控制、气氛控制和粒子控制,专用于半导体制造和 FPD。石英舟用于创建低粒子、无金属的环境,以便在 10 ppm 或更低的 O2 浓度下进行真空热处理。该炉管适用于触摸屏及其他材料的接触退火、后烘烤和活化退火。该系列产品还涵盖先进半导体封装的各种热处理应用,如 Chiplet、2.xD/3D 和其他基于玻璃基板的 RDL(接线层)和玻璃中间膜。

规格

型号 VFS-4000
外部尺寸 (mm) W2000 × D2000 × H4350(炉身)
加热器 LGO 加热器
工作温度 200 至 600°C
基板尺寸 (mm) 液晶・OLED : 730×920(其他尺寸可与我司联系)
先进半导体封装 : 300×300, 510×515, 600×600
批量大小 24片
*液晶・OLED用:730×920mm时的处理片数
  根据基板的厚度和翘曲情况可能会增加或减少。
腔室材料 高级石英
控制器 VSC1000 型
选配 强制冷却系统、HOST 通信 (SECS/GEM)
应用 液晶・OLED : 接触退火、后烘烤、活化退火
先进半导体封装 : RDL固化,印刷基板固化、焊接凸点形成后回流焊

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