VF-3000H 栅极绝缘膜形成用立式炉管
可进行高温处理的立式炉管，非常适合功率器件制造。支持氧氮化和最大 8 英寸的晶圆。具有自动晶圆传输机制，可用于从研发到量产等各种应用。
特性
- 支持从小批量到 50 片晶圆的批量，以及从研发到量产等应用。
- 支持多种晶圆大小，最高可达 8 英寸。
- 可在晶圆附近进行温度监控。
- 炉内采用我们专有的无金属结构。
- 支持不同氧化/氧氮化工艺的串行处理（湿/干氧化、H2 退火、NH3 氮化、NO/N2O 氧氮化）。
- 腔室清洁机制（可选）
概述
VF-3000H 立式炉管可以处理小批量到 50 片一体式，以及从 3 英寸到 8 英寸的各种晶圆大小。精心挑选的硬件和控制系统功能支持从研发到量产等应用。炉内采用我们专有的无金属结构。VF-3000H 可进行高温处理，非常适合功率器件制造。还可以进行氧氮化。
规格
| 工作温度范围 | 700 至 1,400°C |
|---|---|
| 支持的晶圆大小 | 3 至 8 英寸 |
| 最大批量 | 50 片一体式 |
| 使用气体 | N2、Ar、H2、NO、N2O、NH3 |
| 选配 | N2 置换室、腔室清洁机制 |
| 应用 | SiC 功率器件、氧氮化、氮化、氧化、研发、量产 |
应用
定制
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