VF-3000HLP 活性化退火炉

可进行超高温处理的立式炉管,非常适合功率器件制造。支持 3 至 8 英寸晶圆,并具有自动晶圆传输机制。可用于从研发到量产等各种应用。

特性

 

  • 支持从小批量到 50 片一体式的批量,以及从研发到量产等应用。
  • 支持多种晶圆大小,从 3 英寸到 8 英寸不等。
  • 炉内采用我们专有的无金属结构。
  • 可在晶圆附近进行温度监控。
  • N2 置换室是标配。
  • 高通量晶圆盒传输
  • 可以选择 H2 气氛退火和沟槽倒圆处理。

概述

VF-3000HLP 立式炉管可以处理小批量到 50 片一体式,以及从 3 英寸到 8 英寸的各种晶圆大小。精心挑选的硬件和控制系统功能支持从研发到量产等应用。炉内采用我们专有的无金属结构。VF-3000HLP 可以处理测试设备(无需晶圆传输),并支持超高温活化退火工艺。

规格

工作温度范围 700 至 1,900°C(H2 退火为 700 至 1,800°C)
支持的晶圆大小 3 至 8 英寸
最大批量 50 片一体式
使用气体 N2、Ar、H2(可选)
应用 SiC 功率设备、研发、量产、活化退火

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