这些惰性气体烘箱在低氧气氛中使用过热蒸汽进行处理，并且减少了占地面积。
适用于 MLCC 和 LTCC、静电卡盘及其他电子和陶瓷组件的脱脂处理。
这款多功能热处理设备可在低氧气氛下使用过热蒸汽进行处理。
它可用于 MLCC 和 LTCC、静电卡盘及其他电子和陶瓷元件的脱脂处理，以及金属元件的干燥和脱脂。
这些连续炉在低氧气氛中使用过热蒸汽进行处理，并且减少了占地面积。
它可用于 MLCC 和 LTCC、静电卡盘及其他电子和陶瓷元件的脱脂和烧制，以及金属元件的干燥和脱脂。
使用金属马弗可以为这些型号提供出色的均热性能。
此外，马弗良好的气密性可以在炉内形成具有良好稳定性和再现性的气氛。
使用我们具有优异隔热性能和加热/冷却特性的专有 Moldatherm 加热器，可实现高精度温度控制和出色的节能效果。
适用于导体、电阻器和玻璃等厚基板的烧制，以及硬钎焊、软钎焊、电极干燥和脱脂处理。
这些网带式连续炉适用于各种金属的钎焊、玻璃密封和其他还原气氛处理。
配备安全机制的氢气气氛系统易于使用。
除了在氢气（还原）气氛中进行钎焊、回流焊、金属化和玻璃密封外，这些连续炉还可用于光亮处理。
这些产品基于最新的气体控制技术，支持气氛分离，可以精确控制目标区域的气体成分。（例如：低温区的高氧浓度，中温区的中氧浓度，烧制区的低氧浓度）。
适用于 LTCC 基板和 MLCC 的热处理、电感器生产和粉末冶金烧结。用作铜 (Cu) 浆料烧制炉效果也很好。
这实验（研发）用小型网带炉配备齐全，支持用于制造电子元件的各种环境，包括空气、氮气和氢气（还原）环境。
在入口和出口处安装的吹扫室，可以让炉内气氛保持极好的稳定性和再现性。
该产品使用具有优异耐热性和耐磨性的特殊陶瓷链作为传送带，可用于铁氧体烧结、MLCC 烧制和再氧化等高温处理。
可选择耐热性高达 1200°C 的中低温陶瓷传送带，或使用莫来石的高温陶瓷传送带（具有优异的高温强度，耐热性高达 1400°C）。
对于马弗，可选择无马弗配置、陶瓷马弗或金属马弗。
使用陶瓷半马弗可以消除炉内的金属污染物，使其可用于广泛的应用，包括玻璃和其他材料的高温上釉，以及电容器、热敏电阻和其他电子元件的烧制。
与金属马弗结合使用时，与网带炉相比，可以在金属垢(scale)较少的环境中进行烧制。
通过该系列，可实现 600℃ 的最高工作温度，以及产生 20 ppm 低氧 (O2) 浓度的氮气 (N2) 气氛。
这些产品已大量交付，用于陶瓷零件脱脂 (*) 和各种抗氧化处理。
使用冷却鼓风机的炉外冷却机制缩短了冷却时间，而不影响炉内的气氛。
*需要单独的安全设备。请通过一般咨询联系我们。
建议将这些产品与加热器式废气燃烧处理设备结合使用。
使用耐热高性能过滤器和独特的冷却装置，可在清洁环境中进行高温烘烤（最高 530°C（V 型最高 500°C））。
热风循环系统可实现出色的温度均匀性和 100 级空气洁净度（当温度稳定时）。
这种类型的烘箱适用于半导体晶圆和玻璃基板烘烤、老化以及其他需要高温和高精度的热处理。
通过将氮气 (N2) 引入腔室，可以在 20 ppm 或更低的残余 O2 浓度下进行热处理。
