半导体设备发展历程
1970 年，随着以 Tempress Japan 品牌制造的卧式热处理系统的发布，JTEKT Thermo Systems 进入半导体制造设备市场。当时，公司名为 Koyo Lindberg，我们在 1967 年 7 月至 1999 年 10 月期间一直是这个公司名。此后，该公司提供了广泛的热处理技术，在日本半导体行业的增长和发展中发挥了重要作用。我们专注于开发由包含细导线元件的 LGO 加热器驱动的立式热处理设备。其他例子包括灯退火设备和洁净烘箱系统。
半导体设备
制造半导体集成电路需要许多不同类型的设备来执行各种流程。例如向半导体中添加微量杂质的掺杂设备，以及将电路图案烧制到基板上的曝光设备（此工艺称为光刻）。JTEKT Thermo Systems 通过制造用于氧化和沉积等工艺的热处理设备，助力打造这些广泛的一系列产品。
经营方法
不断增长的利基市场
JTEKT Thermo Systems 专注于我们擅长的利基市场，并尽一切努力开发市场所需的新技术和设备。
直到 1972 年推出卧式扩散炉
85000 型卧式扩散炉（完全在日本制造）于 1972 年完工。随着晶圆尺寸呈上升趋势，用于 8 英寸晶圆的 208A-M300 型三段炉如今已成为我们的主打产品。我们的卧式扩散炉中使用的技术也已应用于太阳能电池制造中的扩散炉。目前日本各大制造商都采用这些型号，以满足日益增长的自然能源需求。
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直到 1985 年推出灯光退火炉
我们的首个灯光退火炉专门使用日本技术开发并发布。1992 年，我们开发了全自动型号 RLA-311。我们目前重点开发用于 SiC 功率器件的灯退火系统。
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直到 1985 年推出立式扩散炉
随着 VF-2000 立式氧化扩散炉的开发，JTEKT Thermo Systems 成为行业先锋。1989 年，我们开发出用于批量生产的 VF-5000 系列立式炉管。这些型号配备了清洁机器人，并已成为旗舰产品。为了支持更大的晶圆尺寸，我们还开发并发布了适用于 300 毫米晶圆的 VF-5700 和 VF-5900 型号。通过开发 1,800°C 活化炉和 1,400°C 氧氮化炉等设备，我们的 SiC 功率器件设备销售额不断增长。
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直到 2001 年推出洁净烘箱系统
这款为后端用户开发的 300 毫米晶圆用洁净烘箱在大量交付给 OSAT 公司和其他客户之后成为畅销产品。我们现在正在扩大用于下一代扇出型晶圆级封装技术的改良系统的销售。
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